某半导体企业：超短货期，稳定供货助力薄膜沉积工艺
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项目背景：半导体迎来第二发展曲线
在生成式人工智能推动下，今年半导体产业大幅反弹。根据多方预测，半导体行业将持续增长，2030年有望突破1万亿美元里程碑。 在我国，面对半导体被‘卡脖子’的严峻现实，其发展速度居全球之首，且需求量较大。国家对半导体发展也高度重视，并持续提出支持政策。
企业概况：致力于半导体技术国产化
精量科技服务的某半导体企业致力于国产化替代，专业布局碳化硅工艺，经过多年工艺积累，目前形成以刻蚀工艺设备、薄膜沉积工艺设备等系列产品，主要用于半导体前道工艺阶段，如碳化硅、氮化镓等化合物半导体加工。
工况需求：超供货周期，保证生产质量
该半导体企业为下游客户提供薄膜沉积、刻蚀、除胶等设备，用于在基底材料上制作和沉积薄膜图层，以形成芯片的功能层。在化学气相沉积(CVD)过程中，需用气液混合蒸发器将液体源材料蒸发并混合，从而在沉积过程中形成均匀的薄膜。
该半导体企业联系精量科技，了解精量科技蒸发器产品，以替代某国外品牌，并提出以下需求：
1.供货周期短且稳定；
2.确保液体完全蒸发；
3.响应速度快，混合蒸发气体输出均匀；
4.液体流量精度达到规定标准。
解决方案：供货周期短，保证生产质量
精量科技了解需求后，根据混合的介质及工况，为客户设计气液混合蒸发系统。
系统配置了可控蒸发混合器x1、液体质量流量控制器x1、气体质量流量控制器x1、温度控制仪x1。
图：用于气液混合蒸发系统的ACU20CEM可控蒸发混合器产品
系统配置如下：
可控蒸发混合器：采用 ACU20CEM型号，气体最大量程10 ln/min，液体(水)最小量程120g/h。
液体质量流量控制器：ACU20FE 科里奥利质量流量控制器，准确度±0.25% F.S，重复精度0.05% F.S。
气体质量流量控制器：ACU20FD高精度控制器，准确度±0.5% F.S，重复精度 ±0.2% F.S。
温度控制仪：可控制最高达200℃~300℃高温，充分满足指定介质蒸发条件。
项目收益：助力高效、高质量镀膜制备
该半导体企业使用精量科技的气液混合蒸发系统，在整体精度、响应时间、蒸发效率、流量等性能和指标都满足该企业既有工况和要求。在具体使用过程中，取得了以下收益：
1.保障生产工作正常进行
精量科技近10年的积累，从研发、生产、调试到发货，建立了高效的供货系统。其供货周期短，不影响客户使用和正常作业。凭借高效的生产和调试程序，能满足客户对订货时间及数量的要求。
2.确保高质量薄膜工艺
系统均采用精度高的配置设备，充分满足沉积工艺过程中出气均匀、蒸发高效、响应时间快的标准要求。
3.助力高效的薄膜生产工作
精量科技的气液混合蒸发系统整体性能稳定可靠，量程范围宽，满足不同作业环境下的需求，助力企业高效稳定生产集成电路薄膜。
在部分半导体以及新材料等工艺中进行精确混合蒸发，以确保沉积出的薄膜质量稳定。精量科技的蒸发系统在气液混合环节发挥重要作用，已获国内多家涉及薄膜沉积工艺的企业认可，并与之达成长期战略合作关系。
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